© Intel

Prawo Moore'a przetrwa CMOS

3 lutego 2016, 09:59

Prawo Moore'a przeżyje technologię CMOS i będzie obowiązywało w odniesieniu do przyszłych technik wytwarzania układów scalonych, uważa Wiliam Holt z Intela. Holt, odpowiedzialny w Intelu za wydział technologii i produkcji, nie zdradził, którą z technologii mających zastąpić CMOS wdroży jego firma



Pokonali ostatnią przeszkodę. Czas na masową produkcję EUV

14 lipca 2017, 13:21

Trwało to dłużej i kosztowało więcej, niż ktokolwiek się spodziewał, ale w końcu prace nad litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) mają się ku końcowi. Podczas targów Semicon West holenderska firma ASML ogłosiła, że udało się jej stworzyć 250-watowe źródło światła dla EUV


Nowy fotorezyst dla technologii 20 nanometrów

17 listopada 2009, 12:53

Toshiba poinformowała o opracowaniu fotorezystu, który współpracuje z litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) i jest pierwszym nadającym się do wykorzystania w 20-nanometrowym procesie produkcyjnym.


Intel omija problemy z EUV

1 marca 2010, 15:59

Podczas konferencji LithoVision 2010 wiele uwagi przyciągnęło wystąpienie przedstawicieli Intela. Z jednej strony poinformowali oni, że technologia litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) pojawi się, jak dla niej, zbyt późno, z drugiej zaś - że dostosują obecnie używane narzędzia do produkcji 11-nanometrowych układów scalonych.


Inżynier IBM-a sprawdza 300-milimetrowy plaster z układami CMOS© IBM

Intel zainwestuje 4 miliardy w EUV

10 lipca 2012, 08:36

Intel zainwestuje 4 miliardy dolarów w holenderską firmę ASML, produkującą sprzęt do litografii. W zamian koncern obejmie 15% akcji przedsiębiorstwa.


10 nanometrów w zanurzeniu

13 września 2012, 09:44

Intel poinformował, że jest w stanie wykorzystać litografię zanurzeniową do produkcji układów scalonych w 10-nanometrowym procesie technologicznym. Wykorzystujące go układy zadebiutują nie wcześniej niż w 2015 roku.


EUV zadebiutuje w 2018 roku?

25 stycznia 2016, 15:30

Wszystko wskazuje na to, że litografia w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) będzie gotowa na czas, by wykorzystać tę technologię do produkcji układów scalonych w procesie 7 nanometrów.


© NASA

Zobaczyć nasz Układ Słoneczny z daleka

28 września 2010, 15:13

Astronomowie prześcigają się w szukaniu nowych sposobów na poszukiwanie planet krążących wokół innych systemów planetarnych. A jak postrzegaliby nasz Układ Słoneczny obserwatorzy z odległych gwiazd? Wbrew pozorom nie jest to pusta ciekawość.


Pierwszy taki przybysz spoza Układu Słonecznego ma już swoją nazwę

17 listopada 2017, 13:02

Pierwszy obiekt, który został uznany za planetoidę pochodzącą spoza Układu Słonecznego, ma już swoją nazwę - 1I/'Oumuamua, co po hawajsku znaczy "pierwszy posłaniec przybywający z daleka".


E-papierosy z witaminami. Naukowcy pytają o skuteczność i bezpieczeństwo

30 października 2018, 11:28

Producenci elektronicznych papierosów i liquidów znaleźli kolejny sposób na zareklamowanie swoich produktów. Twierdzą, że wzbogacili liquidu witaminami, co ma pozwolić na uzupełnienie ewentualnych niedoborów. Naukowcy sceptycznie podchodzą jednak do tych stwierdzeń podkreślając, że badania, na które powołują się producenci w swoich sloganach marketingowych są albo przestarzałe, albo wyjęte z kontekstu.


Zostań Patronem

Od 2006 roku popularyzujemy naukę. Chcemy się rozwijać i dostarczać naszym Czytelnikom jeszcze więcej atrakcyjnych treści wysokiej jakości. Dlatego postanowiliśmy poprosić o wsparcie. Zostań naszym Patronem i pomóż nam rozwijać KopalnięWiedzy.

Patronite

Patroni KopalniWiedzy